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Description

überarbeiteter

- Klassisches

- Großer Hello Backprint

- Zwei ebenfalls reflektierende Elemente auf der Rückseite oberhalb der Verse

- Mit langen Ärmeln

Patent Rib collection-crewmember242 überarbeiteterProduktdetails: Neue Beanie Unisexschnitt Aus zwei unterschiedlichen Strickmustern gefertigt Einfarbig Kleines Blades Flaglabel Perfekte Passform Material: 43% Viscose, 32% Polyamide, 25% PBT

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